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常見的幾種功率半導體器件及功率半導體器件清洗

常見的幾種功率半導體器件

1、MCT  MOS控制晶閘管

MCT是一種新型MOS與雙極復合型器件。MCT是將MOSFET的高阻抗、低驅動下MCT的功率、快開關速度的特性與晶閘管的高壓、大電流特型結合在一起,形成大功率、高壓、快速全控型器件。實質上MCT是一個MOS門極控制的晶閘管。它可在門極上加一窄脈沖使其導通或關斷,它由無數單胞并聯而成。

它與GTR,MOSFET,IGBT,GTO等器件相比,有如下優點:
(1)電壓高、電流容量大,阻斷電壓已達3000V,峰值電流達1000A,最大可關斷電流密度為6000kA/m2;
(2)通態壓降小、損耗小,通態壓降約為11V;
(3)極高的dv/dt和di/dt耐量,dv/dt已達20kV/s,di/dt為2kA/s;
(4)開關速度快,開關損耗小,開通時間約200ns,1000V器件可在2s內關斷。
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2、IGCT

IGCT是在晶閘管技術的基礎上結合IGBT和GTO等技術開發的新型器件,適用于高壓大容量變頻系統中,是一種用于巨型電力電子成套裝置中的新型電力半導體器件。


IGCT是將GTO芯片與反并聯二極管和門極驅動電路集成在一起,再與其門極驅動器在外圍以低電感方式連接,結合了晶體管的穩定關斷能力和晶閘管低通態損耗的優點。在導通階段發揮晶閘管的性能,關斷階段呈現晶體管的特性。IGCT芯片在不串不并的情況下,二電平逆變器功率0.5~3MW,三電平逆變器1~6MW;若反向二極管分離,不與IGCT集成在一起,二電平逆變器功率可擴至4/5MW,三電平擴至9MW。


3、IEGT 電子注入增強柵晶體管

IEGT是耐壓達4kV以上的IGBT系列電力電子器件,通過采取增強注入的結構實現了低通態電壓,使大容量電力電子器件取得了飛躍性的發展。IEGT具有作為MOS系列電力電子器件的潛在發展前景,具有低損耗、高速動作、高耐壓、有源柵驅動智能化等特點,以及采用溝槽結構和多芯片并聯而自均流的特性,使其在進一步擴大電流容量方面頗具潛力。

4、IPEM 集成電力電子模塊

IPEM是將電力電子裝置的諸多器件集成在一起的模塊。IPEM實現了電力電子技術的智能化和模塊化,大大降低了電路接線電感、系統噪聲和寄生振蕩,提高了系統效率及可靠性。

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5、PEBB

電力電子積木PEBB(Power Electric Building Block)是在IPEM的基礎上發展起來的可處理電能集成的器件或模塊。雖然它看起來很像功率半導體模塊,但PEBB除了包括功率半導體器件外,還包括門極驅動電路、電平轉換、傳感器、保護電路、電源和無源器件。多個PEBB模塊一起工作可以完成電壓轉換、能量的儲存和轉換、陰抗匹配等系統級功能,PEBB最重要的特點就是其通用性。

6、超大功率晶閘管

晶閘管(SCR)自問世以來,其功率容量提高了近3000倍。現在許多國家已能穩定生產8kV/4kA的晶閘管。日本現在已投產8kV/4kA和6kV/6kA的光觸發晶閘管(LTT),美國和歐洲主要生產電觸發晶閘管。預計在今后若干年內,晶閘管仍將在高電壓、大電流應用場合得到繼續發展。

7、脈沖功率閉合開關晶閘管

該器件特別適用于傳送極強的峰值功率(數MW)、極短的持續時間(數ns)的放電閉合開關應用場合,如:激光器、高強度照明、放電點火、電磁發射器和雷達調制器等。該器件能在數kV的高壓下快速開通,不需要放電電極,具有很長的使用壽命,體積小、價格比較低,可望取代目前尚在應用的高壓離子閘流管、引燃管、火花間隙開關或真空開關等。

8、新型GTO器件-集成門極換流晶閘管

當前已有兩種常規GTO的替代品:高功率的IGBT模塊、新型GTO派生器件-集成門極換流IGCT晶閘管。

9、高功率溝槽柵結構IGBT模塊

當今高功率IGBT模塊中的IGBT元胞通常多采用溝槽柵結構IGBT。與平面柵結構相比,溝槽柵結構通常采用1μm加工精度,從而大大提高了元胞密度。

10、電子注入增強柵晶體管IEGT

與IGBT一樣,它也分平面柵和溝槽柵兩種結構,前者的產品即將問世,后者尚在研制中。IEGT兼有IGBT和GTO兩者的某些優點:低的飽和壓降,寬的安全工作區(吸收回路容量僅為GTO的1/10左右),低的柵極驅動功率(比GTO低2個數量級)和較高的工作頻率。加之該器件采用了平板壓接式電極引出結構,可望有較高的可靠性。

11、MOS門控晶閘管

MOS門極控制晶閘管充分地利用晶閘管良好的通態特性、優良的開通和關斷特性,可望具有優良的自關斷動態特性、非常低的通態電壓降和耐高壓,成為將來在電力裝置和電力系統中有發展前途的高壓大功率器件。

12、砷化鎵二極管

與硅快恢復二極管相比,這種新型二極管的顯著特點是:反向漏電流隨溫度變化小、開關損耗低、反向恢復特性好。

13、碳化硅與碳化硅(SiC)功率器件

在用新型半導體材料制成的功率器件中,最有希望的是碳化硅(SiC)功率器件。它的性能指標比砷化鎵器件還要高一個數量級,碳化硅與其他半導體材料相比,具有下列優異的物理特點:高的禁帶寬度,高的飽和電子漂移速度,高的擊穿強度,低的介電常數和高的熱導率。而且,SiC器件的開關時間可達10nS量級,并具有十分優越的FBSOA。

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功率半導體器件清洗:

針對各類半導體不同的封裝工藝如功率器件QFN,為保證產品的可靠性,合明科技研發多款自主知識產權專利清洗劑,針對不同工藝及應用的半導體封裝需要的精密清洗要求,合明科技在水基清洗方面開發了較為完整的水基系列產品,精細化對應涵蓋從半導體封裝到PCBA組件終端,包括有水基清洗劑和半水基清洗劑,堿性水基清洗劑和中性水基清洗劑等。具體表現在,在同等的清洗力的情況下,合明科技的兼容性較佳,兼容的材料更為廣泛;在同等的兼容性下,合明科技的功率器件QFN清洗劑清洗的錫膏種類更多(測試過的錫膏品種有ALPHA、SMIC、INDIUM、SUPER-FLEX、URA、TONGFANG、JISSYU、HANDA、OFT、WTO等品牌;測試過的焊料合金包括SAC305、SAC307、6337、925等不同成分),清洗速度更快,離子殘留低、干凈度更好。合明科技專注電子制程精密清洗20多年經驗,在水基清洗劑方面頗有心得,包括油墨水基清洗劑,環保清洗劑,半導體芯片封裝水基清洗劑等數十款產品,多年來受到無數客戶的青睞。我們有強大的售前技術指導和最貼心的服務,水基清洗,選擇合科技,決不會讓您失望!合明科技運用自身原創的產品技術,滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術要求,打破國外廠商在行業中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國產自主提供強有力的支持。以上便是功率器件的材料的演進與功率器件電子芯片清洗介紹介紹,希望可以幫到您!


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