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一、TSV硅通孔技術概述
TSV(Through Silicon Via)硅通孔技術是一種先進的封裝技術,它通過在芯片和芯片之間、晶圓和晶圓之間制作垂直通孔,再通過銅、鎢等導電物質填充,實現通孔的垂直電氣連接。這項技術是實現三維立體堆疊和系統集成的基礎,對于提高電子元器件的集成度、電性能以及多功能集成等方面都有重要意義1。
1.TSV硅通孔技術的主要優勢
高密度集成:TSV技術能夠減小封裝的幾何尺寸和重量,滿足多功能和小型化的需求1。
提高電性能:通過垂直互連減小互連長度,減小信號延遲,降低電容和電感,實現芯片間的低功耗、高速通訊2。
多種功能集成:TSV互連的方式可以使不同的功能芯片(如射頻、內存、邏輯、數字和MEMS等)集成在一起,實現電子元器件的多功能3。
降低制造成本:雖然TSV三維集成技術目前在工藝上的成本較高,但可以在元器件總體水平上降低制造成本3。
2.TSV硅通孔技術的工作原理
TSV技術的工作原理主要包括以下幾個步驟2:
孔成型:孔成型的方式有激光打孔、干法刻蝕、濕法刻蝕等。基于深硅刻蝕(Bosch工藝)是目前應用最廣泛工藝。
沉積絕緣層:TSV孔內絕緣層用于實現硅村底與孔內傳輸通道的絕緣,防止TSV通孔之間漏電和串擾。
沉積阻擋層/種子層:在2.5D TSV中介層工藝中,一般使用銅作為TSV通孔內部金屬互聯材料。
電鍍填充工藝:TSV深孔的填充技術是3D集成的關鍵技術,直接關系到后續器件的電學性能和可靠性。
CMP(化學機械拋光)工藝和背面露頭工藝:CMP技術用于去除硅表面的二氧化硅介質層、阻擋層和種子層。TSV背面露頭技術也是2.5D TSV轉接基板的關鍵工藝。
晶圓減薄:晶圓表面平坦化后,還需要進行晶圓背面的減薄使TSV露出。
3.TSV硅通孔技術的應用領域
TSV技術主要應用于各種先進的封裝形式,如FC、FIWLP、FOWLP、TSV、SIP等。它被認為是第四代封裝技術,并且在提高電氣互連性能、增加帶寬、實現更高互連密度以及降低功耗等方面都有顯著優勢3。
4.TSV硅通孔技術的發展趨勢
隨著半導體技術的不斷進步,TSV技術也在不斷發展。未來的TSV技術可能會面臨更小的尺寸挑戰,這將需要更先進的加工設備和技術。此外,隨著芯片厚度的減薄,TSV鍵合技術也需要進一步改進,以保證良好的機械和電學接觸界面
硅通孔(TSV)技術是一種先進的集成電路封裝技術,它通過在芯片與芯片之間、晶圓和晶圓之間制作垂直導通,實現硅通孔的垂直電氣互聯。這項技術由于其高密度集成、提高電性能、多功能集成以及降低制造成本等優勢,在多個領域有著廣泛的應用潛力。以下是TSV硅通孔技術的一些主要應用方向:
TSV技術能夠大幅度縮短電互連的長度,從而很好地解決出現在SOC技術中的信號延遲等問題,提高電性能。這一特點使得TSV技術在高性能計算和通信設備,如服務器、數據中心處理器、高速網絡設備等領域的應用變得可能24。
消費電子產品,如智能手機、平板電腦、筆記本電腦等,通常需要小巧輕便的設計,同時又要保持高性能。TSV技術的小型化和高密度集成特性使其成為消費電子產品理想的封裝解決方案12。
華林科納對包括背照式圖像傳感器、中介層和3D存儲器在內的消費產品相關設備的需求正在推動使用硅通孔(TSV)的先進封裝。這些設備通常需要高精度的圖像捕捉能力和大容量的數據存儲能力,而TSV技術可以幫助實現這些功能1。
TSV技術也被廣泛應用于微機電系統(MEMS)領域。MEMS技術結合了微電子和機械工程,用于創建微型和多功能設備。TSV技術在MEMS領域的應用包括晶圓級芯片互連、CMOS-MEMS集成等6。
3D封裝技術是直接實現硅片或者芯片之間的多層堆疊。這種技術特別適用于存儲器集成,如DRAMStack和FLASHStack。通過這種方式,可以在有限的空間內實現更高的存儲容量和性能2。
新能源汽車和物聯網設備需要大量的數據處理能力和高效的能源管理。TSV技術可以通過其高密度集成和低功耗特性,幫助實現這些設備的高性能和高效能
三、TSV硅通孔芯片封裝清洗劑選擇:
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
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