因?yàn)閷I(yè)
所以領(lǐng)先
SIP系統(tǒng)封裝集合了SMT組件制程工藝和芯片封裝工藝,工藝制程中和工藝完成后,都必須對(duì)所產(chǎn)生的焊膏、錫膏殘留物以及其他的污垢進(jìn)行徹底的清洗和去除,從而達(dá)到組件可靠性的技術(shù)要求。因?yàn)槠骷⑿〉年P(guān)系,使得清洗工藝以及清洗難度大幅提高,為了保障清洗的最終結(jié)果,必須嚴(yán)格制定清洗工藝和選擇相應(yīng)的清洗劑,既滿足清除污垢的要求,又能保證良好的材料兼容性。
SIP系統(tǒng)封裝工藝清洗,首要考慮的是選擇合適的清洗工藝。
SIP系統(tǒng)封裝清洗注意事項(xiàng):
可選半水基和水基工藝制程,往往在SIP制程中,我們需要考慮針對(duì)的清洗對(duì)象包括器件和芯片,需要同時(shí)能夠去除器件和芯片相關(guān)的污垢和殘留物,那么清洗劑的選擇尤為重要。
SIP系統(tǒng)封裝清洗工藝的選擇依據(jù)清洗劑的選擇來制定。半水基的兼容性范圍寬,安全性好,去除能力強(qiáng)。
水基成本低,效率高。在清洗劑選擇中,首先在滿足技術(shù)要求條件的前提下,首選水基工藝,如水基工藝不能滿足工藝制程要求,在材料兼容性上缺乏保障度,其次選擇半水基清洗劑,清洗劑選擇確定以后,而后要考慮的是實(shí)現(xiàn)工藝的設(shè)備條件,清洗劑一般來說都有比較寬泛的使用范圍,都可以適用于噴淋和超聲波清洗工藝,往往SIP清洗工藝制程中,大部分客戶為了考慮SIP器件的可靠性和安全性,首選噴淋清洗工藝。超聲波工藝是通過空化效應(yīng)而實(shí)現(xiàn)物理力,噴淋清洗工藝是靠壓力液體的沖擊而產(chǎn)生物理力,以這兩種物理力的區(qū)分來看,噴淋工藝的安全性要比超聲工藝安全性要高,所以在選項(xiàng)上應(yīng)首選噴淋清洗工藝。
水基清洗劑配合噴淋清洗工藝,為了達(dá)到極高標(biāo)準(zhǔn)的干凈度和對(duì)金屬材料、非金屬材料、化學(xué)材料兼容性要求,需要對(duì)清洗噴淋的壓力、噴淋角度方向、清洗劑溫度濃度等等參數(shù)進(jìn)行嚴(yán)格地規(guī)范,才可保證全面技術(shù)要求。因?yàn)榧夹g(shù)要求高,往往清洗的工藝窗口非常窄小,每一項(xiàng)指標(biāo)都需嚴(yán)格控制。比如清洗劑的濃度,特別在使用在線通過式噴淋清洗工藝,清洗劑的濃度因?yàn)樵O(shè)備條件原因,會(huì)產(chǎn)生很大的變化,清洗劑在清洗機(jī)使用當(dāng)中會(huì)產(chǎn)生氣霧損失、帶離損失,特別是氣霧損失占比比較大,因?yàn)樗逑磩┲泻蟊壤乃推渌M成成份,在一定溫度下會(huì)產(chǎn)生揮發(fā)現(xiàn)象,揮發(fā)的比例,因?yàn)榍逑磩┢贩N不同而產(chǎn)生很大的差異,這樣就需要嚴(yán)格控制清洗劑的濃度,才能保證清洗條件的準(zhǔn)確。
在線通過式清洗工藝中實(shí)現(xiàn)清洗劑在線的濃度檢測(cè)是非常有必要的,監(jiān)測(cè)和控制清洗劑使用中的濃度,并進(jìn)行及時(shí)的調(diào)整,使清洗劑的濃度在可控的數(shù)據(jù)范圍。只有將各類工藝條件和參數(shù),控制在確定的范圍,才能保證最終的SIP系統(tǒng)封裝清洗結(jié)果是理想的預(yù)期值。
SIP系統(tǒng)封裝清洗工藝、設(shè)備、清洗劑材料的選擇和確定是保障SIP系統(tǒng)封裝產(chǎn)品最終技術(shù)要求的重要環(huán)節(jié),也是制程工藝難點(diǎn),從業(yè)的技術(shù)人員需要在非常窄小的工藝窗口中做出準(zhǔn)確的判斷和選擇,經(jīng)過嚴(yán)密嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓に嚋y(cè)試和驗(yàn)證,獲得高水平高標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)結(jié)果。