因為專業
所以領先
功率器件技術的發展包含了多個技術路徑,主要包括線寬、器件結構、工藝進步、材料迭代等方面。這些技術路徑共同推動著功率器件向著更高的功率密度、更低的功耗與成本以及多功能集成的方向發展。例如,第三代半導體材料的引入和集成化趨勢的加強,都是功率器件技術進步的重要體現。
功率GaN器件的襯底主要有SiC、Si、藍寶石這三種。GaNonSiC主要在射頻領域用于功率放大器,GaNonSapphire則主要用于LED領域。這些不同的襯底材料為功率器件提供了多樣化的技術路線,以適應不同的應用需求。
垂直GaN中“垂直”是指器件的結構,簡單可以理解為器件中陽極和陰極相對的位置。目前大多數硅基GaN器件是平面型結構,即陽極和陰極處于芯片同一平面上,導通電流在器件中橫向流動;而垂直型GaN一般是基于GaN襯底,GaN襯底底面為陰極,陽極則位于上方,導通電流是豎向流動。垂直結構能夠更容易產生雪崩效應,這是一種設備自我保護的重要屬性,如果器件兩端電壓或導通的電流出現峰值,擁有雪崩特性的器件就可以吸收這些電涌并保持正常運行,在工業領域有很大的應用空間。
D-ModeGaN器件在沒有施加門極電壓時,器件處于導通狀態,需要施加負向門極電壓來關閉器件。這種器件具有較好的線性特性和較低的開關損耗,適用于一些需要高精度控制和低噪聲的應用,比如音頻放大器、射頻功率放大器等。而E-ModeGaN器件則相反,它們在沒有施加門極電壓時處于關閉狀態,需要正向門極電壓來開啟器件。E-Mode器件通常不需要Cascode結構,封裝復雜度較低,開關頻率也因此不受限制,適用于更廣泛的功率變換應用。
綜上所述,功率器件技術路線的多樣化為不同應用場景提供了豐富的選擇。從材料到結構,再到工藝的進步,每一項技術的發展都在不斷提升功率器件的性能和應用范圍。隨著技術的不斷進步,我們可以期待功率器件在未來能夠更好地滿足各種電子裝置的需求。
功率器件芯片清洗劑選擇:
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
合明科技研發的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
合明科技運用自身原創的產品技術,滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術要求,打破國外廠商在行業中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國產自主提供強有力的支持。
推薦使用合明科技水基清洗劑產品。