半導體污染物鑒別分析技術與半導體封裝清洗劑介紹

減少半導體污染是提高半導體生產良率和增加利潤率的關鍵因素之一。半導體污染可能來自設施、工具和工藝材料。特別是在開發先進工藝時，為生產設施和工藝制定單獨的污染基線和潔凈度規范尤為重要。為了快速解決污染問題，重要的是確定污染物并追蹤其來源。

下面合明科技小編給大家分享的是半導體污染物鑒別分析技術與半導體封裝清洗劑相關知識介紹，希望能對您有所幫助！

半導體污染物鑒別分析技術：

1、化學分析技術

化學分析技術能夠檢測液體中的痕量雜質，包括電感耦合等離子體質譜法（ICP-MS）、電感耦合等離子體發射光譜法（ICP-OES）、石墨爐原子吸收光譜法（GFAAS）、離子色譜法（IC）和氣相色譜質譜法（GC-MS）。

ICP-MS、ICP-OES和GFAAS在許多實驗室中一起使用，相互補充。GFAAS的主要優點是可以分析極小體積（μL）的樣品，并且對大多數元素的檢出限顯著低于ICP-OES。ICP-OES相對于GFAAS的主要優點是其多元素分析能力和良好的動態線性范圍。ICP-MS具有比GFAAS更低的檢出限，結合ICP-OES的多元素能力，這使得ICP-MS非常適合需要超低檢出限和多元素分析的應用。

lC可以檢測陰、陽離子，并且分離干擾，這使得該技術在分析超純水、溶劑、清洗液、電鍍液和其他化學品中的痕量污染以及從超純水提取中收集的殘留物分析方面具有吸引力。

將氣相色譜和用于檢測和鑒定的質譜結合的GC-MS成為一種非常強大的分析工具。潔凈室環境中的有機物可能會產生問題，它會改變表面疏水性，降低擊穿電壓，形成碳化硅而影響氧化物的生長和質量，導致無意摻雜，并導致霧霾的形成。

GC-MS可以監測主要的有機污染源，如潔凈室建筑材料和聚合物、潔凈室空氣、超純水和化學品。有機污染的第二個來源是來自潔凈室配件，如服裝、手套、無塵布、硅片和包裝容器。

2、微量分析技術

目前有許多分析技術能夠表征固體材料（包裝材料、塑料、硅片、薄膜、顆粒物、金屬靶材、設備零部件等）中的污染物。這些分析技術中的許多都涉及到使用電子、光子或離子束來探測樣品。主光束作為激發源，以某種方式與材料相互作用。

深度剖面是材料作為深度函數的表征。大多數技術可以通過改變分析條件來改變探測深度，一層一層地去除表面，同時收集數據。濺射過程在真空室中進行，以確保在分析期間暴露的表面保持無污染。使用這一原理的分析技術包括 SIMS、TOF-SIMS、俄歇電子能譜儀（AES）和XPS。分析信息來自于在主光束轟擊期間從樣品中濺射出的電子、光子或離子。在大多數情況下，幾個相關的量子過程或多或少同時發生，分析技術會集中在某一特定方面。

傅里葉變換紅外光譜（FTIR）和透射電子顯微鏡（TEM）用于監測與樣品相互作用后主光束（能量、強度和角分布）的變化。

半導體封裝清洗劑W3100介紹

半導體封裝清洗劑W3100是合明科技開發具有創新型的中性水基清洗劑，專門設計用于浸沒式的清洗工藝。適用于清洗去除半導體電子器件上的助焊劑殘留物，如引線框架、分立器件、功率模塊、倒裝芯片、攝像頭模組等。本品是PH中性的水基清洗劑，因此具有良好的材料兼容性。

半導體封裝清洗劑W3100的產品特點：

1、本品可以用去離子水稀釋后使用，稀釋后為均勻單相液，應用過程簡單方便。

2、產品PH值呈中性，對鋁、銅、鎳、塑料、標簽等敏感材料上顯示出極好的材料兼容性。

3、不含鹵素，材料環保；氣味清淡，使用液無閃點，使用安全，不需要額外的防爆措施。

4、由于 PH 中性，減輕污水處理難度。

半導體封裝清洗劑W3100的適用工藝：

水基清洗劑W3100適用于浸沒式的清洗工藝。

半導體封裝清洗劑W3100產品應用：

水基清洗劑W3100是合明科技開發具有創新型的中性水基清洗劑，適用于清洗去除半導體電子器件上的助焊劑殘留物，如引線框架清洗、分立器件清洗、功率模塊清洗、倒裝芯片清洗、攝像頭模組清洗等。本產品PH值呈中性，對鋁、銅、鎳、塑料、標簽等敏感材料上顯示出極好的材料兼容性。

具體應用效果如下列表中所列：