水基清洗劑在攝像模組指紋模組清洗中的應(yīng)用

文章關(guān)鍵詞導(dǎo)讀：水基清洗劑、攝像模組清洗指紋模組清洗、PCBA線(xiàn)路板清洗

一、攝像頭模組的應(yīng)用領(lǐng)域

二、攝像頭模組的構(gòu)造

攝像頭模組主要由鏡頭、傳感器Sensor、后端圖像處理芯片、軟板四個(gè)部分組成。模組是影像捕捉至關(guān)重要的電子器件，器件的潔凈決定了模組使用的效果。在生產(chǎn)裝置過(guò)程中對(duì)元件清潔方面的要求很高。

三、攝像頭模組發(fā)展的結(jié)果特點(diǎn)

1.感知與處理的信號(hào)更加微弱與靈敏。這就要求更小的背景“噪聲”，更為潔凈的PCB；

2.工作頻率更高，帶寬更寬。也就要求電路環(huán)境的更高的一致性，更少的引起干擾的異物；

3.更輕、更小的元件，如0201以至更小的chip元件的引入<.li>

4.更高的組裝密度，如元件間距小于0.2mm;

5.結(jié)構(gòu)不同、焊點(diǎn)清洗部位隱蔽的新型器件如：microBGAs、Flip-Chips等的引入

6.更高的耐（電）壓趨勢(shì)

7.更惡劣的工作環(huán)境的適應(yīng)性等等

四、相應(yīng)清洗工藝要求

1、在清洗劑方面的要求

a、選擇與使用焊劑匹配的清洗劑

b、清洗劑能適應(yīng)不同情況，不會(huì)因生產(chǎn)工藝微小的改變而無(wú)法適應(yīng)

c、要求清洗劑粘度低，流動(dòng)性好，以適應(yīng)微細(xì)間隙部分的清洗

d、清洗劑提供商有足夠的技術(shù)儲(chǔ)備，能提供強(qiáng)大的技術(shù)支持

e、低成本

2、在工藝和設(shè)備上的要求

a、勝任高精、高密、組裝有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高潔凈清洗

b、無(wú)毒、低毒、防火、防爆

c、溶劑內(nèi)循環(huán)，低排污

d、參數(shù)自控，特別是潔凈度自控

3、相對(duì)于傳統(tǒng)溶劑清洗劑，水基清洗劑體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：

a、使用安全，無(wú)閃點(diǎn)；

b、無(wú)毒，對(duì)人體危害小；

清洗壽命長(zhǎng)，相對(duì)成本低；

c、能徹底有效去除各種殘留物，滿(mǎn)足高精、高密、高潔凈清洗要求；

殘留物如：免洗錫膏殘留清洗、助焊劑殘留清洗、極性污染物、非極性污染物、離子污染物、灰塵、手印、油污，以及溶劑清洗劑無(wú)法去除的金屬氧化層（見(jiàn)圖1圖2）。

五、環(huán)保清洗工藝

高效、高規(guī)格、環(huán)保安全的水基清洗工藝是最理想的選擇，也是未來(lái)清洗業(yè)的發(fā)展方向和必經(jīng)之路。